化学气相沉积
日期：2017-7-4 8:53:12 作者： 流量：
化学气相沉积技术是利用气态源物质表面上进行化学反应，生成固态物质的技术。在化学气相沉积过程中，气体的压强可以使常压或低压。采用低气压化学气相沉积时，用旋片式机械泵使反应室的气体压强维持在100Pa左右。气态物质间的反应一般是在热激活条件下进行的，多采用电阻加热或感应加热方式将反应室加热至高温。CVD的气源物质可以是气态源、液态源和固态源。在CVD设备中，通常最关键的部分是反应室的结构，有垂直放置的反应室和水平放置的反应室。他们通常适合在大气压或以下的气压下采用，通常采用对称设计以保证热量、反应物质和气体均匀传送。相对于垂直放置的反应室，水平反应室具有生产效率高、使用方便的优点，但是也有沉积涂层相对不太均匀的缺点。它垂直于轴向的截面可以是圆形的，也可以是矩形的，为了获得更均匀的涂层沉积速度，在这类反应室中，基座通常以一定的角度倾斜。
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